Processo de revestimento direto de cobre ácido Substrato de aço Solução de revestimento de cobre ácido Brilhante
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Destacar
Processo de revestimento direto de cobre com ácido
,Revestimento de cobre com ácido de substrato de aço
,Luminador de revestimento de cobre com ácido direto
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TipoAbrilhantador
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CaracterísticaRevestimentos de cobre ácido
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RecursoRevestimento direto de cobre
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SubstratoAço e aço inoxidável
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Lugar de origemChina
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MarcaFENGFAN
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Número do modeloFI-ZL001
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Quantidade de ordem mínimaNegociável
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PreçoNegociável
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Detalhes da embalagemEmbalagem padrão de exportação
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Tempo de entrega15-25 dias úteis
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Termos de pagamentoL/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
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Habilidade da fonte200000pcs/dia
Processo de revestimento direto de cobre ácido Substrato de aço Solução de revestimento de cobre ácido Brilhante
Processo de Galvanoplastia Direta de Cobre Ácido; Solução de Galvanoplastia de Cobre Ácido em Substrato de Aço, Galvanoplastia de Cobre Brilhante
Características
• É uma galvanoplastia de cobre ácido sem cianeto em substrato de aço e ferro, especialmente adequada para galvanoplastia contínua.
• Pode ser a camada base, em vez de níquel semi-brilhante ou níquel Watt ou galvanoplastia de cobre alcalino cianeto.
• A espessura da camada de galvanoplastia de cobre pode atingir mais de 200μm.
• Não contém cianeto, por isso é fácil tratar as águas residuais e tem pouca poluição para o meio ambiente.
• A manutenção do banho é simples e a vida útil é longa.
• Galvanoplastia de cobre de alta velocidade, alta eficiência de corrente e boa capacidade de galvanoplastia profunda, especialmente adequada para galvanoplastia de cobre de alta velocidade e alta corrente de rolo a rolo.
COMPOSIÇÃO DO BANHO E CONDIÇÃO DE OPERAÇÃO
| Condições de operação | Faixa (galvanoplastia em rack) | Composição do banho | ||
| Cobre de renderização | Cobre espesso | Cobre brilhante | ||
| Sulfato de cobre (CuSO4·5H2O) | 80 ～ 250 g/L | 100 g/L | 100 g/L | 200 g/L |
| Ácido sulfúrico (H2SO4) | 60 ～ 100 g/L | 70 g/L | 80 g/L | 60 g/L |
| FI-ZL001 A | 5 ～ 25 ml/L | — | — | 3 ml/L |
| FI-ZL001 B | 50 ～ 100 ml/L | 50 ml/L | 100 ml/L | — |
| FI-ZL001 C | 50 ～ 100 ml/L | 50 ml/L | 100 ml/L | — |
| Temperatura | 20 ～ 40 ℃ | 30 ℃ | 30 ℃ | 30 ℃ |
| Densidade de corrente catódica | 1 ～ 10 A/dm2 | 1~3 A/dm2 | 3 A/dm2 | 3~10 A/dm2 |
| Filtro | Filtração contínua | |||
| Agitação | Movimento catódico ou agitação por ar | |||
| Ânodo | Cobre fosforoso | |||
| Cátodo | Relação de área de ânodo e cátodo em 2:1 | |||
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